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6 pages à l'impression |
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version initiale 2000 | |
| dernière
mise à jour 18 mars 2013 |
TRANSISTORS
deuxième partie (2/3) : transistor à effet
de champ
| principe et fonctionnement | un canal plus ou moins ouvert | |||
| équations du TEC | dans la zone centrale | |||
| caractéristiques | ||||
| mise en oeuvre schéma équivalent | le montage source commune | |||
| applications typiques | l'étage d'entrée | |||
| une collection d'icônes pour visiter tout le site |
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relation entre ID,
VDS et VGS que l'on exploite en traçant les caractéristiques
(voir courbes ci-avant) ID = f(VDS) à VGS
constante. L'analyse de cette équation montre que lorsque VDS
augmente ID va d'abord croitre puis atteindre un maximum pour VDS
= Vp, dite tension de pincement,
au delà de laquelle la réduction de largeur du canal compense
l'augmentation de courant liée à l'augmentation de VDS.
d'où l'on tire le courant maximal correspondant à VDS-
VGS= Vp
pour VGS > VGSoff on constate que IDM = 0.
Il ne faut donc pas polariser trop négativement la grille.
pour toute autre valeur de VGS, et en particulier RDS
tend vers l'infini si VGS = VGSoff
pente de la caractéristique iD = f(vDS), notons
que 1/gds varie entre 100 k
et
1 M
pente
de iD = f(vGS), varie typiqement entre 0.1 et 10 mA/V
<<
RG+Rg, de même 1/Cs
<<
Rs. En outre il sera nécessaire que la composante alternative
vSM (entre source et masse) soit inférieure à vgs.
Ce qui implique 1/Cs
<< 1/gm.
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